工学院大学、省エネを実現する高安定な半導体 1枚目の写真・画像

 「イノベーション・ジャパン2015」が開催された。今回ピックアップするのは、工学院大学総合研究所の助教・相川慎也氏が中心となって研究する「製造条件に左右されない高安定なアモルファス酸化薄膜トランジスタ」だ。

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「製造条件に左右されない高安定なアモルファス酸化薄膜トランジスタ」の製品サンプル(撮影:防犯システムNAVI取材班)
「製造条件に左右されない高安定なアモルファス酸化薄膜トランジスタ」の製品サンプル(撮影:防犯システムNAVI取材班)

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